| 1 电子光学 1.1 电子光学特征 1.2 轴对称电场中的电子运动 1.3 电透镜 1.4 磁透镜 1.5 实用磁透镜 1.6 静电透镜与磁透镜的比较 2 电子束技术基础 2.1 电子束的产生及性质 2.2 电子枪概述 2.3 强流电子枪设计基础 2.4 电子束蒸发沉积 3 离子束物理基础 3.1 等离子体基本性质 3.2 等离子体的分类 3.3 等离子体的获得 3.4 低温等离子体中粒子运动和效电基本过程 3.5 离子束与材料表面的相互作用 4 强流轴向电子枪 4.1 概述 4.2 轴向电子枪基本结构和工作原理 4.3 轴向电子束发生系统设计计算 4.4 电子光路系统设计计算 4.5 枪室真空系统设计 4.6 电子枪的调试 4.7 强流轴向枪电源设计 4.8 电子枪X射线的形成与屏蔽防护 5 偏转电子枪 5.1 电子束流磁偏转理论基础 5.2 偏转电子枪工作原理与结构 5.3 偏转枪（e型枪）参数设计 5.4 偏转电子枪束流设计计算 5.5 压差孔的设计 5.6 电子枪头的安装与调试 5.7 偏转电子枪电源 6 空心阴极放电（HCD）电子枪 6.1 空心阴极放电效应 6.2 空心阴极电子枪工作原理 6.3 空心阴极电子枪设计参数 6.4 HCD枪中等离子体的离化率与电流形成 6.5 偏转电磁场的设计计算 6.6 空心阴极与辅助阳极的设计 6.7 离子镀中等离子源的束流偏转 7 离子束技术 7.1 离子源 7.2 离子注入技术 7.3 离子束沉积技术 8 S枪离子溅射源的设计基础 8.1 S枪的基本原理与结构 8.2 S枪溅射源结构设计 8.3 S枪磁控溅射的工作特性 8.4 基本参数的设计计算 参考文献 |
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