| 1 绪论 1.1 引言 1.2 真空微电子学的发展历史 1.3 真空微电子学的特点和内容 1.4 真空微电子学的应用与发展趋势 思考题与习题 参考文献 2 场致发射 2.1 引言 2.2 表面电子特性 2.3 金属场致发射 2.4 半导体场致发射 2.5 内场致发射 2.6 场致发射电子的能量分布和Nottingham效应 2.7 空间电荷效应 思考题与习题 参考文献 3 器件物理与特性分析 3.1 引言 3.2 场致发射公式的特性 3.3 真空条件和FEA结构分析 3.4 FEA结构优化和理论极限 3.5 FEA热稳定性和材料选择 3.6 FEA阵列特性估算 思考题与习题 参考文献 4 数值计算与器件特性模拟 4.1 引言 4.2 数值计算模型的建立 4.3 静电场的数值模拟 4.4 电子轨迹及发射电流的计算 4.5 场致发射器件特性模拟 思考题与习题 参考文献 5 器件制造与工艺 5.1 引言 5.2 纵向器件的制备 5.3 横向器件的制备 5.4 器件封装 5.5 器件制备中所涉及的重要工艺 思考题与习题 参考文献 6 真空微电子器件 6.1 引言 6.2 真空集成电路有源元件 6.3 高频和微波器件 6.4 电子源和微电子光学系统 6.5 场致发射显示屏 6.6 传感技术 6.7 显微技术 思考题与习题 参考文献 |
内容加载中，请稍后...
商品评论（0条）