| 本书系统深入地阐述了当前激光去制备纳米材料（包括粉，丝，管）和激光制膜的原理，设备，技术，产物的物理化学特性及其在高技术产业中的应用，并评述了其发展前景。特别具体介绍了激光法纳米粉分散技术和陶瓷，铝，树脂基材料，功能涂层，高温超导改性，理论与高技术相结合，内容翔实，有很强的实用性。 本书可供从事纳米材料的制膜工作的科学技术人员和工程研发人员使用，也可作为相关专业大学师生和研究生的参考书。 |
| 第一章 绪论 第一节 新一代纳米材料的技术要求 第二节 激光制备纳米材料的方法分类 一、激光蒸发法 二、激光诱导气相合成法 三、激光剥离溅射法 四、激光与其他高能束耦合的方法 第三节 激光制备纳米材料的特点和新发展 第四节 激光制膜 第二章 激光法合成硅基纳米粉 第一节 激光气相法合成硅基纳米粉的装置 一、激光气相合成装置 二、反应气选择 第二节 激光气相法合成硅基纳米粉工艺 一、激光法喷雾（气）反应器喷嘴特性 二、激光气相法合成纳米粉反应过程连续稳定的基本条件 三、激光气相法过程主要工艺参数 四、激光气相法合成硅纳米粉 五、激光气相法合成碳化硅纳米粉 六、激光气相法合成Si3N4纳米粉 七、实验室以气体为反应物原料的激光气相法合成硅基纳米粉的条件及主要性能 第三节 激光液相法制备硅基纳米粉 一、大分子有机硅烷反应物的选取 二、液相有机硅烷蒸化装置及蒸气流量的控制 三、激光HMDS液相超声雾化法制备Si/C/N纳米粉 第四节 激光液相法原位合成含Al、Y烧结添加的硅基纳米粉 一、概述 二、HMDS超声雾化法原位预添加助烧剂的Si/C/N/O/Al/Y粉的合成 三、原位预添加助烧剂Si/C/N粉制备态性能 参考文献 第三章 激光气相法硅基纳米粉的物理和化学性能 第一节 激光法硅基纳米粉的顺磁缺陷和导电性 一、激光法硅基纳米粉的化学构序和顺磁缺陷 二、激光气相（SiH4＋C2H2）法纳米SiC粉的导电性和介电性能 第二节 激光气相法硅基纳米粉的组织结构 一、硅基纳米粉结构的透射电镜（TEM）观察 二、激光液相（HMDS）法制备硅基纳米粉的组织结构 第三节 激光硅基纳米粉吸波性能的测定 一、激光法SiC、Si3N4、Si/N/C纳米粉紫外吸收性能 二、Si、Si3N4、Si/N/C纳米粉红外吸收性能 三、单一Si3N4纳米粉体微波吸收性能 四、非晶纳米Si3N4固体透光性能 第四节 制备状态硅基纳米粉在石墨炉中的热行为 一、SiC、Si/C/N、Si/N/C/Al/Y/O纳米粉失重评价 二、在N2中退火Si/N/C纳米粉体化学组成的评价 三 |
![工程光学设计[按需印刷]](http://images.china-pub.com/ebook300001-305000/300185/zcover.jpg)
内容加载中，请稍后...
商品评论（0条）