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硅及其氧化物的电化学--表面反应、结构和微加工
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最 低 价:
¥53.70
定 价:¥68.00
作 者:
[加]章小鸽 编著
著
出 版 社:
化学工业出版社
出版时间:2004 年9月
I S B N:7502556982
价格比较
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条)
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编辑推荐
内容简介
本书系统地介绍了关于硅及其氧化物的电化学从理论到实践的全部知识,包括对硅/电解液界面,阳极氧化,刻蚀,光效应,阴极特性及氧化-还原对,多孔硅和光电化学的详细阐述。对研究硅表面现象的科研人员和开发以硅为基的电子器件的工程师具有重大的实用意义。硅的电化学在硅技术与工艺和电化学系统中很重要,本书第一次全面介绍了硅在水溶液中的电化学知识。因此本书适合于硅及其氧化物领域的科研人员和工程师阅读,也可供相关专业学生参考。
作者简介
目录
符号表
第一章 半导体电化学的基础理论
第二章 硅/电解质界面
第三章 阳极氧化物
第四章 硅氧化物的刻蚀
第五章 阳极性能
第六章 阴极特性和氧化-还原对
第七章 硅的刻蚀
第八章 多孔硅
第九章 总结
参考文献
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