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碳化硅晶体生长与缺陷

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碳化硅晶体生长与缺陷

最 低 价:¥105.00

定 价:¥128.00

作 者:施尔畏

出 版 社:科学出版社

出版时间:2012年5月1日

I S B N:9787030341280

价格
105.00元

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内容简介

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《碳化硅晶体生长与缺陷》可供从事无机晶体生长研究的科技人员参考,亦可供从事相关领域研究的科技人员和在学研究生阅读。硅元素和碳元素是大自然赐予人类的两个极为珍贵的物质礼物,我们可以说,如果没有它们,人类社会的生产和生活活动将会终止。虽然硅和碳是自然界中最丰量的元素,但在地球长达数十亿年的演化过程中,却没有形成有工业应用价值的结晶态碳化硅矿物。迄今为止,人们只是在金刚石或火山岩中发现了少量共生的天然结晶态碳化硅。实现碳化硅材料的人工制备,包括碳化硅陶瓷材料和碳化硅晶体,并将其运用到社会生产与生活的许多方面,是人类在近现代材料研究与工业技术领域的一个重大创造。

作者简介

目录

前言
1 碳化硅晶体的多型结构与表征
1.1晶体的多型
1.2碳化硅晶体的结构层与基本结构单元
1.3碳化硅晶体多型的共生与连生
1.43C—sic多型的结构
1.52H—sic多型的结构
1.64H—sic多型的结构
1.76H—sic多型的结构
1.815R—sic多型的结构
1.9碳化硅晶体多型结构参数的变化
1.10碳化硅晶体多型结构鉴别概述
1.11X射线衍射法鉴别碳化硅晶体多型结构
1.12高分辨率透射电子显微镜法鉴别碳化硅晶体多型结构
1.13吸收光谱法鉴别碳化硅晶体多型结构
1.14拉曼光谱法鉴别碳化硅晶体多型结构
符号说明和注解
2 碳化硅晶体的物理气相输运(PVT)法生长
2.1硅—碳二元体系和硅—碳—金属元素三元体系的相图
2.2固态碳化硅分解升华的热力学研究
2.3PVT法碳化硅晶体生长技术的发展历程
2.4PVT法碳化硅晶体生长系统概述
2.5PVT法碳化硅晶体生长模型研究
2.6PVT法碳化硅晶体生长系统的可控变量与间接变量
2.7PVT法碳化硅晶体生长系统变量之间的强耦合
2.8生长原料区温度场和碳化硅粉体的演变
2.9石墨坩埚生长腔内温度场的演变
符号说明和注解
3 气相组分和碳化硅晶体的生长机制
3.1气相组分概述
3.2PVT法碳化硅晶体生长的螺旋位错机制
3.3气相组分在PVT法碳化硅晶体生长研究中的地位
3.4纯硅气相组分sim的稳定构型与能量
3.5纯碳气相组分cn的稳定构型与能量
3.6硅碳气相组分simcn的稳定构型与能量
3.7气相组分simcn构型的转变
3.8气相组分simcn的化学序
3.9气相组分simcn的相互作用
3.10气相组分simcn在生长界面上的结晶
符号说明和注解
4 碳化硅晶体的结晶缺陷
4.1碳化硅晶体结晶缺陷概述
4.2碳化硅晶片结晶质量的整体评价
4.3碳化硅晶片几何特性和表面加工质量的整体评价
4.4多型共生缺陷
4.5镶嵌结构缺陷
4.6堆垛层错
4.7孔道与微管道
符号说明和注解
后记

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