| 第1章Ir的性质及其涂层制备方法 1.1Ir的性质 1.2Ir涂层制备方法 第2章C基体表面沉积Ir涂层 2.1引言 2.2实验过程 2.3工艺参数对涂层表面形貌的影响 2.4等离子体的绕射现象 2.5Ir涂层的微观结构 2.6Ir涂层的生长方式 2.7Ir涂层的断裂方式 2.8Ir涂层的力学性能 2.9涂层的高温烧蚀 2.10小结 第3章双辉等离子法在Mo基体表面沉积Ir涂层 3.1引言 3.2实验过程 3.3Ir涂层的组织结构及形貌表征 3.4共混区形成机理 3.5涂层的力学性能 3.6涂层高温处理 3.7涂层高温烧蚀 3.8小结 第4章双辉等离子法在Nb基体表面沉积Ir涂层 4.1引言 4.2实验过程 4.3Ir涂层的形貌表征 4.4Ir涂层的力学性能 4.5涂层高温烧蚀 4.6小结 第5章双辉等离子法在W基体表面沉积Ir涂层 5.1引言 5.2实验过程 5.3涂层组织结构与表面形貌分析 5.4涂层高温烧蚀 5.5W/Ir复合涂层 5.6小结 第6章双辉等离子法在WC基体表面沉积Ir涂层 6.1引言 6.2实验过程 6.3涂层的形貌与结构 6.4涂层的力学性能 6.5Ir涂层高温烧蚀 6.6小结 第7章双辉筹离子法在C/C基体表面沉积W涂层 7.1引言 7.2实验过程 7.3C/C复合材料表面双辉等离子制备W涂层工艺优化 7.4涂层的形貌表征 7.5涂层的力学性能 7.6涂层的高温处理 7.7小结 参考文献 支持本研究课题的学术论文 支持本研究课题的专利 致谢 后记 |
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