薄膜技术与薄膜材料

.习题
第4章气体放电和低温等离子体
4．1带电粒子在电磁场中的运动
4．2气体原子的电离和激发
4．3气体放电发展过程
4．4低温等离子体概述
4．5辉光放电
4．6弧光放电
4．7高频放电
4．8低压力、高密度等离子体放电
习题
第5章薄膜生长与薄膜结构
5．1薄膜生长概述
5．2吸附、表面扩散与凝结
5．3薄膜的形核与生长
5．4连续薄膜的形成
5．5薄膜的生长过程与薄膜结构
5．6非晶态薄膜
5．7薄膜的基本性质
5．8薄膜的粘附力和内应力
5．9电迁移
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第6章真空蒸镀
6．1概述
6．2镀料的蒸发
6．3蒸发源
6．4蒸发源的蒸气发射特性与基板配置
6．5蒸镀装置及操作
6．7化合物膜的蒸镀
6．8脉冲激光熔射(pla)
6．9分子束外延技术
习题
第7章离子镀和离子束沉积
7．1离子镀原理及方式
7．2几种典型的离子镀方式
7．3离子束沉积
7．4离子束混合
习题
第8章溅射镀膜
8．1离子溅射
8．2溅射镀膜方式
8．3溅射镀膜的实例
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第9章化学气相沉积(cvd)
9．1化学气相沉积(cvd)概述
9．2热cvd
9．3等离子体cvd(pcvd)
9．4光cvd(photocvd)
9．5有机金属cvd(mocvd)
9．6金属cvd
9．7半球形晶粒多晶si-cvd(hsg-cvd)
9．8铁电体的cvd
9．9低介电常数薄膜的cvd
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第10章干法刻蚀
10．1干法刻蚀与湿法刻蚀
10．2等离子体刻蚀——激发反应气体刻蚀
10．3反应离子刻蚀(rie)
10．4反应离子束刻蚀(ribe)
10．5气体离化团束(gcib)加工技术
10．6微机械加工
10．7干法刻蚀用离子源的开发
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第11章平坦化技术
11．1平坦化技术的必要性
11．2干坦化技术概要
11．3不发生凹凸的薄膜生长
11．4沉积同时进行加工防止凹凸发生的薄膜生长
11．5薄膜生长后经再加工实现平坦化
11．6埋人技术实例
11．7化学机械研磨(cmp)技术
11．8气体离化团束(gcib)加工平坦化
11．9大马士革法(damascene)布线及平坦化
11．10平坦化技术与光刻制版术
11．111c多层布线已进展到第四代
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第12章表面改性及超硬膜
12．1表面改性
12．2超硬膜用于切削刀具
习题
第13章能量及信号变换用薄膜与器件
13．1能量变换薄膜与器件
13．2传感器
13．3金刚石薄膜的应用
习题
第14章半导体器件、记录和存储用薄膜技术与薄膜材料
14．1半导体器件
14．2记录与存储
习题
第15章平板显示器中的薄膜技术与薄膜材料
15．1平板显示器
15．2液晶显示器
15．3等离子体平板显示器
15．4有机电致发光显示器(oled)
习题
第16章太阳电池中的薄膜技术与薄膜材料
16．1太阳电池的原理和薄膜太阳电池的优势
16．2太阳电池和光伏发电的最新进展
16．3硅系薄膜太阳电池
16．4cdte太阳电池
16．5cigs太阳电池
16．6超高效率多串结ⅲ—v族化合物半导体太阳电池
16．7有机薄膜型太阳电池
16．8色素增感(染料敏化)太阳电池
习题
第17章白光led固体照明与薄膜技术
17．1半导体固体发光器件的基础——发光过程
17．2发光二极管和蓝光led
17．3白光led固体照明器件
17．4激光二极管
习题
参考文献
作者书系