| 第1章 集成电路设计概论 1.1 集成电路发展概况 1.2 集成电路发展特点及规律 1.2.1 集成电路工艺指标 1.2.2 摩尔定律 1.3 集成电路分类 1.3.1 什么是EDA 1.3.2 集成电路设计概念 1.3.3 集成电路设计要素 1.3.4 集成电路设计流程 本章小结 思考与练习 第2章 集成电路制造工艺 2.1 半导体基础知识 2.1.1 半导体能带带隙 2.1.2 半导体载流子 2.1.3 半导体分类 2.1.4 PN结 2.1.5 MOS场效应管 2.2 工艺流程概述 2.2.1 制造工艺介绍 2.2.2 材料的作用 2.2.3 工艺流程 2.2.4 外延(Epitaxy)生长 2.2.5 光刻(Photolithography) 2.2.6 掺杂(Doping) 2.2.7 薄膜制备 2.3 CMOS工艺主要流程 本章小结 思考与练习 第3章 Linux操作系统与EAD软件介绍 3.1 Linux操作系统基础 3.1.1 命令终端启动与用户目录 3.1.2 文件的操作 3.1.3 vi编辑器的使用 3.2 IC设计EAD软件介绍 3.2.1 CADENCE公司 3.2.2 SYNOPSYS公司 3.2.3 MENTOR公司 3.2.4 芯片反向设计介绍 本章小结 思考与练习 第4章 VirtuosoSchematic使用基础 4.1 初步认识VirtuosoSchematic编辑器 4.1.1 启动VirtuosoSchematic编辑器 4.1.2 启动电路图编辑器 4.2 电路编辑窗口常用命令 本章小结 思考与练习 第5章 版图编辑器Virtuoso使用基础 5.1 Virtuoso界面介绍 5.1.1 Virtuoso工艺文件配置与关联 5.1.2 Virtuoso编辑窗口的布局 5.1.3 Virtuoso编辑窗口的设置 5.2 版图层的介绍 5.2.1 LSW介绍 5.2.2 层的颜色和图案设置 5.3 版图的输入 5.3.1 当前层的设置 5.3.2 各种几何图形的画法 5.3.3 其他操作和命令 5.4 版图输出 本章小结 思考与练习 第6章 设计规则检查与版图验证 6.1 设计规则 …… 第7章 集成电路常用器件版图 第8章 Virtuoso-XL与版图设计例 参考文献 |
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