TFT-LCD原理与设计

.2.2.4tft开关特性的结构设计
2.3液晶显示基础
2.3.1液晶的基本结构与特性
2.3.2液晶光学
2.3.3液晶电学
2.3.4液晶力学
2.3.5液晶显示模式
第3章 tft-lcd材料技术
3.1玻璃基板
3.1.1玻璃基板的制造技术与发展
3.1.2玻璃基板的使用要求
3.2ito薄膜
3.2.1ito薄膜的基本特性
3.2.2ito薄膜的特性要求
3.3配向膜
3.3.1配向膜的材料技术
3.3.2配向膜的特性要求
3.4液晶材料
3.4.1液晶的物理特性与分子结构设计
3.4.2液晶材料的特性要求
3.5seal材
3.5.1seal的材料技术
3.5.2seal的特性要求
3.6微粒子(spacer)
3.6.1球状spacer
3.6.2纤维状spacer和金球spacer
3.7cf基板
3.7.1cf的材料技术
3.7.2cf的特性要求
3.7.3cf的制造技术
3.8偏光板
3.8.1偏光板概述
3.8.2相位差板
3.8.3宽视角补偿膜
3.9电路元件
3.9.1电学元器件
3.9.2pcb基板
3.9.3驱动ic封装方式
3.10背光源
3.10.1光源
3.10.2光学膜片
3.10.3导光板
第4章tftlcd工艺技术
4.1阵列工艺技术
4.1.1阵列工艺流程
4.1.2洗净工艺
4.1.3sputter成膜工艺
4.1.4cvd成膜工艺
4.1.5pr工艺
4.1.6曝光工艺
4.1.7湿刻工艺
4.1.8干刻工艺
4.1.9 阵列检查工程
4.2成盒工艺技术
4.2.1配向膜印刷与配向
4.2.2 spacer散布与固着
4.2.3 seal与银浆涂布
4.2.4液晶滴下(或注入)
4.2.5真空贝占合
4.2.6seal硬化
4.2.7玻璃切断
4.2.8偏光板贴付
4.2.9成盒工程检查
4.3模块工艺技术
4.3.1olb工程
4.3.2pcb压接技术
4.3.3模块组装
4.3.4老化实验
4.3.5模块工程检查
第5章tn显示原理与设计
5.1tn显示原理
5.1.1tn显示的光透过率
5.1.2tn显示的光学原理
5.1.3tn显示的电学原理
5.2tn像素工作原理
5.2.1tn像素基本结构
5.2.2像素中的电容效应
5.2.3配线延迟效应
5.2.4灰阶电压写入与保持
5.2.5tn显示的综合效应
5.315xga的显示屏设计
5.3.1预设计
5.3.2tft侧像素设计
5.3.3彩膜侧像素设计
5.3.4显示屏周边设计
5.3.5显示屏用mark设计
5.415xga的基板相关设计
5.4.1基板用teg与mark设计
5.4.2uvmask和uvsheet设计
5.4.3配向膜印刷版设计
第6章 ips显示原理与设计
6.1.1ips显示的光透过率
6.1.2ips显示的光学原理
6.1.3ips显示的电学原理
6.2ips技术的发展
6.2.1从单畴结构到多畴结构
6.2.2有机膜ips技术
6.332hd显示屏设计
6.3.1sips像素的原理与设计
6.3.2saips像素的原理与设计
6.3.332hd像素设计
6.3.432hd显示屏设计
6.4ffs显示原理与设计
6.4.1ffs的显示原理
6.4.2ffs技术的发展
6.4.332hd显示屏用aff5像素设计
6.5ips残像的机理与对策
6.5.1ips残像的机理
6.5.2离子型不纯物分析
6.5.3残留dc分析
6.5.4线残像的机理与对策
第7章va显示原理与设计
7.1va显示原理
7.1.1va显示的光透过率
7.1.2va显示的光学原理
7.1.3va显示的电学原理
7.2不同va技术的原理与发展
7.2.1mva技术的原理与发展
7.2.2pva技术的原理与进展
7.2.3cpa技术的原理与发展
7.2.4新型va显示技术
7.3va的色偏机理与对策
7.3.1va的色偏机理与评价
7.3.2色偏的8畴改善技术
7.3.3色偏的其他改善技术
7.446fhd显示屏设计
7.4.146fhd像素的初步设计
7.4.246fhd像素的详细设计
7.4.346fhd显示屏设计
7.4.4 46fhd显示屏拼接曝光设计
第8章tft-lcd驱动技术与设计
8.1tft-lcd驱动原理
8.1.1驱动原理简介
8.1.2驱动方式
8.1.3灰阶增强技术
8.2tft-lcd电路技术
8.2.1接口电路
8.2.2电源电路
8.2.3时序控制电路
8.2.4数据驱动电路
&2.5扫描驱动电路
8.3tft-lcd电路设计
8.3.1电路设计概要
8.3.2电路原理图设计
8.3.3pcb版图设计
8.3.4 cof设计
8.3.5伽马设计与调节
第9章tft-lcd结构技术与设计
9.1结构技术与设计概要
9.1.1结构技术概要
9.1.2结构设计概要
9.2模组的结构设计
9.2.1opencell结构设计
9.2.2胶框设计
9.2.3导光板设计
9.2.4光学膜片设计
9.2.5ccfl光源的结构设计
9.2.6led光源的结构设计
9.3背光源的光学设计
9.3.1光学设计基础
9.3.2亮度设计
9.3.3亮度均匀性设计
9.3.4光学品质设计
9.4模组的力学设计
9.4.1强度设计
9.4.2散热设计
9.4.3防尘设计
9.5模组的电学设计
9.5.1emi设计
9.5.2绝缘耐压设计
9.6模组的其他设计
9.6.1组装设计
9.6.2安全性设计
第10章高品质和低成本设计
10.1面向光学规格的高品质设计
10.1.1高亮度设计
10.1.2高对比度设计
10.1.3高响应速度设计
10.2面向特殊画质的高品质设计
10.2.1闪烁机理与设计对策
10.2.2串扰机理与设计对策
10.2.3显示不均机理与设计对策
10.3高合格率设计
10.3.1工程检查及相关设计
10.3.2esd改善设计
10.3.3点缺陷修复设计
10.3.4线缺陷修复设计
10.4低成本设计
10.4.14mask设计
10.4.2省uvmask设计
10.4.3低材料成本设计
第11章ltps tft-lcd原理与设计
11.1ltpstft工艺与设计
11.1. 1 ltpstft器件基础
11.1.2ltpstft特性设计
11.1.3ltpst盯工艺技术
11.2ltpstft-lcd周边电路的集成设计
11.2.1模拟输入的电路集成设计
11.2.2dac内置电路集成设计
11.2.3memory内置电路集成设计
11.3半透过型tftlcd原理与设计
11.3.1反射型tft-lcd原理
11.3.2半透过型tft-lcd原理
11.3.3半透过型tft-lcd的反射光学设计
11.3.4半透过型tft-lcd的偏光光学设计
参考文献