| 1 真空镀膜设备设计概述 2 真空镀膜室结构设计计算 2.1 基本设计原则 2.2 镀膜室的材料选择与焊接要求 2.2.1 材料选择 2.2.2 焊接要求 2.3 镀膜室壁厚的计算 2.3.1 镀膜室的计算壁厚 2.3.2 镀膜室的实际壁厚与壁厚附加量 2.3.3 镀膜室的最小壁厚 2.4 圆筒形镀膜室壳体的设计计算 2.4.1 圆筒形镀膜室基本设计参数 2.4.2 圆筒形镀膜室的强度(壁厚)计算 2.4.3 外压圆筒加强圈的设计 2.4.4 简体加工允许偏差 2.4.5 镀膜室封头的壁厚计算 2.5 圆锥形壳体的设计 2.6 盒形壳体设计 2.7 压力试验 2.8 真空镀膜室门设计 2.9 真空镀膜室的冷却 3 镀膜室升降机构的设计 3.1 立式镀膜机真空室的升降机构 3.1.1 机械升降机构 3.1.2 液压升降机构 3.1.3 气动液压相结合的升降机构 3.2 真空室的复位 4 镀膜室工件架的设计 4.1 常用工件架 4.1.1 球面行星传动工件架 4.1.2 摩擦传动工件架 4.1.3 齿轮传动工件架 4.1.4 拨杆传动工件架 4.2 工件架的转速 5 真空镀膜机的加热与测温装置 5.1 加热方式及其装置 5.2 测温方式与装置 5.3 真空室内引线设计 6 真空镀膜机的挡板结构 7 真空镀膜机的抽气系统设计 7.1 镀膜设备用真空系统 7.1.1 普通镀膜设备用典型高真空系统 7.1.2 超高真空系统 7.2 真空镀膜机抽气系统的设计 7.2.1 真空镀膜设备对抽气系统的要求 7.2.2 镀膜机抽气系统的放气量计算 7.2.3 真空泵的选择 8 真空室内电和运动的导入导出结构设计 8.1 电导人导出结构设计 8.1.1 电导入导出结构设计要求 8.1.2 电导入导出部件的结构形式 8.2 运动导入导出结构设计 8.2.1 常规转轴动密封导入导出结构 8.2.2 磁流体动密封运动导入导出结构 8.2.3 金属波纹管密封柔性运动导入导出结构 8.2.4 磁力驱动动密封运动导入导出结构 9 充布气系统设计 9.1 充布气系统设计原则 9.2 充布气系统结构设计 9.2.1 充布气系统类型及结构 9.2.2 布气管路结构形式 9.2.3 充布气管路分析计算 9.3 充气控制方式设计 9.3.1 封闭式气压稳定充气控制 9.3.2 质量流量控制器充气控制 9.4 真空室内充大气时间计算 10 电磁屏蔽结构设计 10.1 真空镀膜设备屏蔽概述 10.2 电磁辐射屏蔽设计 11 蒸发源的设计计算 11.1 电阻加热式蒸发源的热计算 11.2 e型枪蒸发源的设计计算 11.2.1 灯丝参数计算 11.2.2 磁偏转线圈及灯丝位置的确定 11.2.3 膜材蒸发时所需热量 11.2.4 e型枪蒸发源的水冷却 11.2.5 e型枪蒸发源的电源 11.2.6 多枪蒸发源的设计安装 11.3 感应加热式蒸发源的结构设计 11.3.1 坩埚设计 11.3.2 电源及其频率的选择 11.4 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 11.4.1 点蒸发源的膜厚分布 11.4.2 小平面蒸发源膜厚分布 11.4.3 环形蒸发源 11.4.4 矩形平面蒸发源 11.4.5 蒸发源与基片的相对位置 12 磁控靶射靶的设计 13 溅射镀膜的膜厚均匀性设计 参考文献 |
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