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真空离子镀膜设备（JB/T8946-2010）

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作者：本社编著

出版社：人民出版社

出版时间：2010-7-1

I S B N：151119761

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真空离子镀膜设备（JB/T8946-2010）

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编辑推荐

内容简介

本标准适用于：
　　——电弧蒸发离子镀膜设备；
　　——电子束蒸发离子镀膜设备；
　　——磁控溅射离子镀膜高发；
　　——上述三类离子镀膜设备的组合。
　　其他类型的具有离子镀膜特征的设备可参照执行本标准。

作者简介

前言
1 范围
2　规范性引用文件
3　术语和定义
4　型式与基本参数
　4.1 结构型式
　4.2 基本参数
　4.3 型号
5 技术要求
　5.1 设备正常工作条件
　5.2　设备的结构要求
　5.3　设备的制造要求
　5.4　设备安全性
　5.5　节能与环保
6　设备检验及其品质评价
　6.1　设备的检验
　6.2　设备使用性能和经济效益
7　质量承诺
8　标志、包装、运输和贮存
　8.1 标志
　8.2包装
　8.3 运输
　8.4　贮存