| 姚汉民 1944年11月生，男，1966年毕业于浙江大学光学仪器系光学仪器专业，研究员，博士生导师。曾任中国科学院成都分院院长、光电技术研究所所长、微细加工光学技术国家重点实验室主任。长期从事光电跟踪光学仪器和微电子光学设备的研究，1979年至今，参加JX-1型接近／接触式光刻机，圆形电子束、可变矩形电子束曝光机激光定位工件台系统，掩模缺陷自动检测系统，1．5 pan～2 btm分步重复投影光刻机等研究工作。主持国家“八五”攻关项目O．8 μm～1μm投影光刻机、中国科学院重大项目0．7μm～O．8 μmi线投影曝光系统的研究。作为项目负责人，主持完成“九五”重大项目O．35μm投影光刻关键单元技术研究。作为首席专家完成中国科学院知识创新工程重大方向性项目“生物芯片仪器”项目研究。先后获国家科技进步三等奖两项，中国科学院科技进步一等奖四项、科技进步二等奖一项。 |
| 前言 第一章 光学投影光刻基础 第一节 微纳光刻技术概述 一、微纳加工光刻技术 二、微纳加工光刻技术分类 第二节 光学投影光刻 一、光学投影光刻简介 二、光学投影光刻技术的发展 三、光学投影光刻机分系统及关键单元技术 四、光学投影光刻在微纳加工技术中的应用 参考文献 第二章 投影曝光光学系统 第一节 投影光刻物镜 一、光学基础 二、投影光刻物镜的光学材料 三、投影光刻物镜的光学设计与评价 四、投影光刻物镜的机械结构设计与制造 第二节 均匀照明系统 一、概述 二、紫外光照明系统 三、准分子激光深紫外照明系统 第三节 调焦调平系统 一、概述 二、检焦技术 三、整场调平逐场调焦 四、逐场和实时调平调焦 参考文献 第三章 掩模硅片对准 第四章 精密定位工件台 第五章 分辨力增强技术 第六章 投影光刻整机集成 第七章 投影光刻技术的发展趋势及纳米光刻新技术的前景展望 附录：国际主要投影光刻设备厂商机器型号 |
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