| 前言 第一章 化学吸附的宏观物理量及实验过程 1·1 化学吸附的基本概念 1·1·1 吸附的种类及其区别 1·1·2 描述吸附的物理量 1·1·3 平衡吸附规律的描述 1·1·4 化学吸附的表面结构 1·2 表面分析概述 1·2·1 如何获得表面信息 1·2·2 表面探针的选择 1·2·3 相关的测量仪器 1·3 电子衍射及应用 1·3·1 引言 1·3·2 由LEED图像直接推断表面的二维结构 1·3·3 LEED实验装置 1·3·4 清洁表面和有序化学吸附层结构的部分测量结果 1·4 俄歇电子谱(AES) 1·4·1 俄歇电子发射的机理 1·4·2 俄歇电子谱仪的结构 1·4·3 的应用 1·5 光电子谱(PES) 1·5·1 光电子谱(PES)的发展和分类 1·5·2 光电子谱(PES)的基本原理 1·5·3 光电子谱(PES)的实验装置 1·5·4 X射线光电子谱(XPB)的应用 1·5·5 光电子谱(PES)的实验结果 1·6 场发射显微镜(FEM)和场离子显微镜(FIM) 1·6·1 场致电子发射的基本原理 1·6·2 场发射显微镜(FEM) 1·6·3 场发射显微镜(FEM)的应用 1·6·4 场离子显微镜(FIM) 1·7 扫描隧道显微镜(STM) 1·7·1 STM工作原理 1·7·2 STM仪器装置 1·7·3 STM特点与测量举例 1·8 其他能谱技术 参考文献 第二章 化学吸附的量子理论基础 2·1 表面态理论概述 2·2 理想简单金属表面电子结构 2·2·1 金属体内的电子状态 2·2·2 有效体态密度、表面态密度、局域态密度和积分态密度 2·2·3 金属表面电子态——准自由电子气模型 2·3 理想半导体的表面态 2·3·1 NFE模型中的电子状态 2·3·2 晶体中的实数k能带和表面区的复数k能带 2·3·3 基于NFE模型的窄禁带半导体表面态的形成 2·3·4 窄禁带半导体表面态密度 2·4 密度泛函理论简述 2·4·1 Hohenberg-Kohn定理 2·4·2 局域密度近似(LDA) 参考文献 第三章 不同衬底表面的化学吸附简述 3·1 小分子在胶体(简单金属)表面的化学吸附 3·1·1 线性响应理论 3·1·2 有效单电 |
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