| 本书系统地介绍了聚焦离子束技术的原理、发展历史、系统分类和组成、重要分系统的设计、重要的应用实例和发展前景。为了使读者有更多的了解，还介绍了国外先进的商品型FIB系统的性能指标。本书是电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著之一，可以作为从事微纳加工和半导体集成电路制造行业的研究人员和工程技术人员的技术参考书，也可以作为高等院校相应专业教师和研究生的参考书。 |
| 前言 第一章 聚焦离子束技术概论 第一节 集成电路制造中的三束技术 一、电子束技术 二、光子束技术 三、离子束技术 第二节 聚焦离子束技术 一、常规离子束加工与聚焦离子束加工 二、聚焦离子束技术的发展历史 三、聚焦离子束系统的分类 第三节 聚焦离子束系统组成 一、离子源 二、离子光学柱 三、束描画系统 四、X-Y工件台 五、信号采集处理单元 参考文献 第二章 聚焦离子束与固体材料表面的相互作用 第一节 聚焦离子束与固体材料表面的相互作用 第二节 离子在固体中的能量损失和射程 一、核损失(nuclearlosses) 二、电子损失(electroniclosses) 三、电荷交换能量损失 四、离子在固体材料中的射程 五、沟道效应- 第三节 聚焦离子束的主要功能 一、离子注入 二、离子溅射 三、材料的化学变化 四、离子诱导沉积 五、表层损伤 六、二次电子、二次离子发射 参考文献 第三章 聚焦离子源 第一节 聚焦离子源概述 第二节 几种聚焦离子源的结构及工作原理 一、双等离子体离子源 二、液态金属离子源(LMIS) 三、气态场发射离子源(GFIS) 第三节 液态金属离子源 一、液态金属离子源的工作机理 二、液态金属离子源的主要性能指标 三、液态金属离子源发射尖制备的基本工艺要求及原理 四、液态金属离子源的结构形式、挂金属工艺及测试 第四节 液态金属离子源发射系统的仿真分析 一、液态金属离子源发射系统的电场计算 二、用MonteCarlo法模拟计算液态金属离子源的发射特性 第五节 典型液态金属离子源介绍 一、镓液态金属离子源 二、海绵体电极型液态金属离子源 三、液态合金离子源 第六节 液态金属离子源测试与实验装置 一、液态金属离子源发射尖自动腐蚀设备的开发研制 二、液态金属离子源结构 三、DL-01型液态金属离子源测试实验 参考文献 第四章 聚焦离子束装置中的离子光学系统 第一节 概论 第二节 轴旋转对称离子光学系统 一、轴旋转对称静电场和静磁场的分析研究 二、离子在静场中的运动 |
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