| 1. 光催化中的电子过程 1.1 导言 1.2 分了电子激发 1.3 半导体电子激发 1.4 量子尺寸 参考文献 2. TiO2光催化剂的结构、表面性能及其制备 2.1 TiO2的晶格和电子结构 2.2 TiO2表面的化学吸附研究 2.3 TiO2表面无机小分子的光化学 2.4 在TiO2单晶上的光氧化反应 2.5 在TiO2催化剂气－固界面的光氧化反应 2.6 TiO2催化剂液固界面的光氧化反应 2.7 二氧化钛的制备技术 参考文献 3. 贵金属沉积对光催化活性的影响 3.1 前言 3.2 光催化剂的制备 3.3 光催化剂的表征和活性测试 3.4 XPS的表征 3.5 负载贵金属后的光催化活性和选择性 3.6 不同负载方法对光催化活性和选择性的影响 3.7 结论 参考文献 4. 复合半导体光催化剂 4.1 复合半导体的意义 4.2 复合半导体的模型结构 4.3 CdS半导体的光电性能与光腐蚀过程 4.4 CdS－TiO2复合半导体的电子传输机理 4.5 CdS－TiO2复合半导体的合成方法 4.6 反胶束法的优势及采用反胶束法合成纳米粒子 5. 非金属掺杂光催化剂 6. 光催化过程中的过渡金属离子 7. 染料敏化二氧化鈦光催化 8. 分子筛中高分散催化剂的定域结构，激发态和光催化反应活性 9. 非均相光催化 10. 二氧化钛光催化膜 |
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