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作 者:(英)沃茨(Watts,J.F.),(英)沃斯滕霍姆(Wolstenholme,J.) 著,吴正龙 译 著
出 版 社:华东理工大学出版社
出版时间:2008-1-1
I S B N:9787562822264
| 1 电子能谱:一些基本概念 1.1 表面分析 1.2 能谱标识方法 1.2.1 谱学家标识方法 1.2.2 X射线标识方法 1.3 x射线光电子能谱(XPS) 1.4 俄歇电子能谱(AES) 1.5 扫描俄歇电子显微镜(SAM) 1.6 电子能谱中的分析深度 1.7 比较ⅪPS和AES/SAM 1.8 表面分析设备 2 电子能谱仪构造 2.1 真空系统 2.2 样品 2.3 X射线源 2.3.1 双阳极×射线源 2.3.2 X射线单色器 2.3.3 荷电补偿 2.4 AES的电子枪 2.4.1 电子源 2.4.2 俄歇电子能谱中电子发射体的比较 2.5 电子能谱分析器 2.5.1 筒镜形分析器 2.5.2 半球形分析器 2.6 探测器 2.6 1 通道电子倍增器 2.6 2 通道板 2.7 小面积XPS 2.7.1 透镜限定小面积XPS 2.7.2 源限定小面积XPS 2.8 XPS成像和面分布成像 2.8.1 串行采集 2.8.2 平行采集 2.9 小面积XPS的横向分辨率 2.10 角分辨XPS 3 电子能谱:定性和定量诠释 3.1 定性分析 3.1.1 电子能谱中的干扰特征峰 3.1.2 数据采集 3.2 化学态信息 3.2.1 X射线光电子能谱 3.2.2 电子诱导激发俄歇电子能谱 3.2.3 俄歇参数 3.2.4 化学态图 3.2.5 震激伴峰 3.2.6 多重劈裂 3.2.7 等离激元 3.3 定量分析 3.3.1 影响电子能谱定量分析的因素 3 3.2 XPS定量分析 3.3 3 AES定量分析 4 组分深度剖析 4.1 非破坏性深度剖析方法 4.1.1 角分辨电子能谱 4.1.2 分析深度随电子动能的变化 4.2 惰性气体离子刻蚀深度剖析 4.2.1 溅射过程 4.2.2 实验方法 …… 5 电子能谱在材料科学中的应用 6 XPS,AES与其他分析技术的比较 名词术语 附录 索引 |
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